Институт прикладной физики РАН создает первый отечественный литограф для производства микроэлектроники по современным техпроцессам.
«Альфа-машина» должна появиться в 2024 году
В Институте прикладной физики Российской академии наук (ИПФ РАН) ведется разработка первой отечественной установки литографии для производства микроэлектроники по современным технологическим процессам.
Сейчас создан демонстрационный образец, который разработчики называют «прототип прототипа». На этой установке получены отдельные изображения на подложках с разрешением до предельных 7 нм. Сейчас в России в промышленных масштабах могут работать с микроструктурами только более 65 нанометров (в основном 90 нм и более). Тем не менее, пока говорить о грандиозном прорыве немного рано, нужно пройти три этапа разработки за 6 лет до появления полноценного промышленного оборудования.
В 2024 году должна быть готова «альфа-машина». Уже с этого момента установка станет рабочим оборудованием и будет рассчитана на проведение полного цикла операций. Однако упор на этом этапе будет сделан не на высокую скорость ее работы или разрешение, а на полноценную реализацию всех систем. Однако и этого должно быть достаточно, чтобы разработка стала привлекательной для инвесторов и фабрик, особенно с учетом конкурентной стоимости самой установки и её обслуживания.
На втором этапе в 2026 году появится «бета-машина». Системы будут улучшены и усложнены, увеличится разрешение, повысится производительность, многие операции будут роботизированы. Установку уже можно будет применять на масштабных производствах, что и будет сделано – на этом рубеже важно интегрировать ее в реальные технологические процессы и отладить, «подтянув» соответствующее оборудование для других этапов производства.
Наконец, на третьем этапе (2026-2028 годы) российский литограф получит более мощный источник излучения, улучшенные системы позиционирования и подачи, станет работать быстро и точно.
Несмотря на то, что отечественный 7-нанометровый техпроцесс будет освоен еще не скоро, работы тянут на настоящую технологическую революцию – со времен СССР в России нет своего литографического производства, а текущий уровень в 65-90 нм достигнут после приобретения уже ненового иностранного оборудования в конце 2000-х годов. Здесь же речь идет именно о разработке своего и, что особенно важно, по оригинальной технологии.
Мировой технологический лидер в литографии компания ASML использует систему EUV-литографии уже около 20 лет. Специалисты отмечают сложность данной технологии плюс большие размеры используемого ультрафиолетового источника излучения. У иностранцев фотолитография заточена под массовое производство очень больших объемов. В России стоит задача не захватить мировой рынок, а первоначально обеспечить запросы своего. Поэтому для российского проекта важно качество. Российские физики уже в этом плане создали демонстратор технологии на другом источнике излучения – рентгеновском. При этом наш источник излучения в разы компактнее и чище в работе, что значительно влияет на стоимость, размеры и сложность оборудования. Оптическая система демонстратора, собранная в ИПФ РАН, уже превосходит все аналоги, существующие в мире на сегодняшний день. А на выходе при равной мощности оборудованию ASML источника излучения российская установка будет в 1,5-2 раза эффективнее того, что создано мировым лидером.
Комментарии
Ещё осталось уговорить этот миллиард питаться дорогими процессорами от нас, а дешёвые и качественные, из Китая, посылать нахрен.
Для дешёвой массовой бытовухи из Китая и дальше будут брать. А для себя сами будем делать всё что угодно. И уже никто не вякнет с навязыванием России своей тухлой воли. Как ссали на западные ссанкции так и будем ссать :)
У Китая дефицит, он сам немерянно закупает на стороне. Так что это скорее Россия может рынок Китая осваивать. Ла собственно даже сейчас что-то поставляем. Чипы для авто и прочее.
Тут такое дело.... Есть продукция для пипла - ширпотреб, есть продукция для бизнеса - это уже серьезнее, а есть продукция для государств - всякие там мелочи вроде безопасности, связи и ТД и тп.
Каждый из трёх вариантов стоит примерно одинаково для покупателя, но по разному для продавца и разработчика.
При этом заходить разумнее именно с решений для государств. Так что достаточно обозначить свою готовность и способность быть крышей для тех кому надоели и гегемон и претендент, и таки желает жить сообща с теми кто разделяет эту позицию. Ну и конечно надо располагать готовыми решениями. Часть уже есть, часть разрабатывается, часть ждёт спроса и разработки.
Так что все это вполне реально.
Эх, сколько их уже было...
Если производить планово-убыточно, вполне взлетит. Первое время господдержка, как отладят техпроцесс и выйдут на объемы, может появится какая-то прибыль.
Внутренний рынок слишком мал. Поэтому да - надо своё и планово-убыточное на старте, но и стремится к захвату рынков - прежде всего для сбыта государствам не желающим зависеть от США и Китая. А дальше на базе этой самоокупающейся уже отрасли можно думать и комплексных решениях для бизнеса и далее о каком то ширпотребе.
Написано, хорошо, аж потеплело на душе.
Но если чуть подумать, накатывает пессимизм.
В ASML не сверхумные гномы сидят конечно, но нам придется повторять независимо их путь. А он был порядка 20 лет. так что отрапортованный срок 10 лет зачеркиваем.
"Отдельные изображения на подложках до предела 7 нм". Это замечательно. В лабораториях экспериментально много чего делается, это доказывает, что мы не Нигерия с ракетами.
А теперь ведерко холодной воды.
Вопрос не в нанометрах, а в том какие задачи стоят, и какие нанометры для этого нужны. И только. Так что ведёрко можете засунуть себе обратно туда откуда его вытащили на вентилятор.
Видимо, эпопею с опытным производством 65 нм продукции вы пропустили.
На производственную дисциплину, боюсь, у нас долгая и неславная традиция плевать. Как-то у буржуев, которые как роботы на работе, все получается.
Уж-то оспаривать потребность в 65 нм (нужную цифру подставить) не будете?
Так что свои приемчики диванного воена с вентилятором оставьте себе - Ангстрем от этого лучше работать будет очень вряд ли.
Страницы