23 сентября на площадке Российского форума «Микроэлектроника 2025» подписан договор на поставку отечественной установки совмещения и проекционного экспонирования c разрешением 350 нм (фотолитографа) между Зеленоградским нанотехнологическим центром (ЗНТЦ) и Отраслевыми решениями (ГК «Элемент»), в развитие подписанного годом ранее соглашения ЗНТЦ и Микрона (ГК «Элемент»).
Фотолитограф предназначен для проекционного переноса изображения фотошаблона на полупроводниковую пластину и мультипликации его на пластине при изготовлении сверхбольшой интегральной схемы (СБИС) с проектной топологической нормой 350 нм. Договор подписан генеральным директором АО «ЗНТЦ» Анатолием Ковалевым и генеральным директором АО «Отраслевые решения» Дмитрием Ершом и предусматривает поставку, монтаж и пусконаладку оборудования.
«Сегодня мы закладываем фундамент нового этапа развития отечественной микроэлектроники. В ЗНТЦ завершена разработка установки совмещения и проекционного экспонирования с разрешением 350 нм, ее параметры подтверждены на производственной площадке, осуществляется переход к серийному производству. Это первый шаг в создании линейки российских литографов. Создан серьезный задел, который позволяет нам перейти к разработке полностью локализованных установок с нормами 90 нм», - сказал Анатолий Ковалев, генеральный директор АО «ЗНТЦ».
«Перед нами стоит задача запустить производство электронной компонентной базы мирового класса на преимущественно отечественном оборудовании и материалах. Литограф ЗНТЦ предназначен для топологических норм до 350 нм, которые используются в силовой электронике, автоэлектронике и промышленных системах», - пояснил Дмитрий Ерш, генеральный директор АО «Отраслевые Решения».
Также в этот день АО «НЗПП ВОСТОК» (ГК «Элемент») и ЗНТЦ подписали соглашение о сотрудничестве, целью которого является отработка технологии на литографическом оборудовании наноцентра для серийного производства фотонных интегральных схем.
Комментарии
А что такое фотонные ИС?
А то оптоэлектронные ИС знаю, оптоакустические ИС знаю, фотонные не знаю.
Грубо говоря, это такие ИС, где информация передается не по металлическим проводам, а по волноводам (каналам, направляющим свет).
Потенциальное применение ФИС: высокоскоростные трансиверы, радиолокация, авионика, связь, интерферометры для сенсоров газов и измерительной аппаратуры, оптические квантовые и нейроморфные процессоры и т.п.
Под эту технологию в России уже строятся центры и ведутся исследовательские работы:
Завершено строительство Московского центра фотоники в «Алабушеве»
В России изготовлены фотонные интегральные схемы 90 нм и 350 нм
В "Сколтехе" впервые в РФ произвели и протестировали фотонные чипы
...
А в чём тогда коренное отличие фотонных ИС от оптронных? И там и там инфа передается "не по металлическим проводам" (тут слегонца поржал; читать такое человеку, с успехом окончившим ХИРЭ...).
В обоих случаях каналом переноса информации является свет - фотоны.
Отличие лишь в том, что в ФИС обработка передаваемой информации (модуляция, усиление, фильтрация, детектование и т.п.) происходит на фотонном же уровне, в отличии от оптронов, где сначала производится обратное преобразование на фотоприёмнике, и лишь затем его обработка.
ДЫК и я про то, что коренных отличий нет. А всё остальное, это просто другой способ обработки информации.
Высокоскоростные оптроны - до 25 MHz. ФИС - 100 GHz. Разница в 3 порядка.
А так да - "коренных отличий нет", также как у телеги и ракеты.
Это количественный показатель, но не качественный. И там и там - свет.
И, да, у телеги и ракеты именно качественный показатель. Одна взлететь может, вторая - нет.
Мне кажется, что установку для Микрона начали делать сразу, после подтверждения соответствия ее первоначальному ТЗ. Тогда говорилось, что заказано две установки. Т е сейчас просто официально могли это закрепить, как документы подписывают на знаковых мероприятиях.
цитата: Предполагаю значительное время до начала поставок (2028 г.) необходимо на отладку оборудования с выходом на высокий процент годных кристаллов на пластине. А может и другие причины есть.
возможно предположение окажется верным.
ссылка: https://aftershock.news/?q=node/1543269
Российский 350-нм литограф готовят к серийному производству в Зеленоградском нанотехнологическом центре (ЗНТЦ). Его стоимость для наших предприятий радиоэлектронной промышленности составит около 6 миллионов долларов США (около 500 млн рублей по среднему курсу начала сентября 2025 года). На российском оборудовании можно будет обрабатывать от 100 до 140 пластин в час. Поставки первых серийных машин стартуют в 2028 году. Эту информацию в середине сентября озвучил ведущий разработчик литографического оборудования ЗНТЦ Виктор Абросимов.
Было бы смешно, если бы не было так грустно.
Перспективный чат детектед! Сим повелеваю - внести запись в реестр самых обсуждаемых за последние 4 часа.