20 сентября 2024 года на сайте ГК «Лассард» появилась информация о том, что ими уже произведены 2 опытных образца эксимерного лазера: с источником излучения 248 нм (средний ультрафиолет, MUV) который является важным элементом будущего российского литографа для техпроцесса 130 нм и, возможно, даже с источником излучения 193 нм (дальний или глубокий ультрафиолет, DUV) для следующего литографа на 90 нм., хотя такого уточнения компанией представлено не было и в кадр цифра 193 нм не попала:

В следующем, 2025-м году, лазеры будут отправлены на испытания, а в 2026-м — выйдут в серию. Проводить тестирование лазеров будут сотрудники «Зеленоградского нанотехнологического центра» (ЗНТЦ), собственно и собирающие литограф.

По словам замминистра Минпромторга Василия Шпака, посетившего площадку ГК «Лассард» 18 сентября, с конвейера будут сходить не менее пяти таких лазеров в год. Это косвенно свидетельствует о том, что производить литографы собираются действительно в промышленных масштабах.

По словам замминистра, потенциальные заказчики на наши литографы уже имеются. Весь перечень заинтересованных в их приобретении компаний он не раскрыл, назвав лишь «Микрон». Однако, я думаю, что потенциальные заказчики этого оборудования есть и за рубежом.

Буквально спустя 4 дня, 24 сентября 2024 года, на форуме «Микроэлектроника 2024», который проходил 23-28 сентября на площадке Научно-технологического Университета «Сириус», компании «Микрон» и «ЗНТЦ», подписали долгосрочное соглашение.

Предметом соглашения явилось сотрудничество в освоении технологий и производстве фотолитографического оборудования с нормами 350-90 нм на территории Российской Федерации. Что-то подобное, очевидно, действует и между ASML и TSMC — нидерландскими производителями литографов и тайваньской фабрикой по производству чипов.

В рамках соглашения планируются работы по отладке технологии производства оборудования и обеспечению им производственных площадок, проведение совместных исследований и экспериментальных работ, тестирование фотолитографического и электроннолучевого оборудования, оборудования контроля дефектности, а также организация программ обучения и стажировок специалистов.

Если убрать все эти умные слова и сказать простым языком, то компании будут совместно отлаживать техпроцесс производства чипов.

Напомню, что лазеры с длиной волны 193 и 248 нм разрабатываются ГК «Лассард» для «ЗНТЦ» в рамках ОКР «Разработка и изготовление установки проекционного переноса изображений топологического рисунка ИС на пластину (Step&Repeat) и источников излучения с длинной волны 193 и 248 нм, постановка базовых технологических процессов проекционного переноса изображений на пластину (Step&Repeat) с размером минимального конструкционного элемента 130 нм», шифр «Прогресс ППИ 130».

С сожалением вынужден заметить, что согласно плану ОКР, испытания обоих лазеров должны были быть проведены до 31 января 2024 года, но сроки, как мы видим, опять сдвинулись вправо, причём на целый год. Это, безусловно, плохо.

Однако, если в 2025-м году хотя бы 248-нанометровые лазеры всё же успешно пройдут испытания, то разработчики успеют и к испытанию опытного образца всего литографа для техпроцесса 130 нм, намеченного на 2026-й год, и задержка не скажется на сроках серийного запуска производства литографов. Так что пока особого «криминала» тут нет.

Подобные лазеры в России никогда не производились. ГК «Лассард» сообщает, что только две компании в мире занимаются производством таких лазеров — японская GigaPhoton и американская Cymer. Так что у России есть все шансы стать третьей страной в мире, где налажено подобное производство.

Также Василий Шпак сообщил, что сегодня уже разрабатываются материалы и заказываются различные ОКР по компонентам литографических линий техпроцесса 90 нм и даже 65 нм. Подтверждаю, о подобных ОКР я уже писал ранее.

Замечу, что имея технологию 90 нм можно уже сделать двухъядерный процессор Эльбрус для компьютеров (для многих лёгких задач будет достаточно), а на 65 нм уже четырёхядерный (будет достаточно уже для большинства задач). Подробнее читайте в статье «Восьмая версия архитектуры Эльбрус! Похоже, что российский микропроцессор скорее жив, чем мёртв».

Подробнее про российский литограф для техпроцесса 130 нм вы можете прочитать в другой моей статье «Характеристики следующего российского литографа на 130 нм, ожидаемого в 2026-м году».

Также вы можете прочитать и про уже изготовленный у нас литограф для техпроцесса 350 нм, проходящий сейчас испытания, источником излучения в котором, судя по длине его волны 365 нм (ближний ультрафиолет, NUV) является ртутная лампа. Статья называется «Характеристики первого российского литографа на 350 нм, проходящего испытания в Зеленограде».

Кроме того, вы можете почитать и про перспективный рентгеновский литограф для техпроцесса 28 нм в последней моей статье на эту тему «Российский EUV-литограф на 28-16-12 нм, почему он ожидается проще и дешевле, чем у ASML?», разработка которого тоже продолжается.

Вообще, статьи про литографы вы можете почитать в моей подборке «Российские литографы, фабрика, литография». Там можно найти много чего интересного :-)