Японская Canon разрабатывает литографическое оборудование нового поколения для выпуска полупроводников, способное конкурировать с продукцией голландской ASML, являющейся практически монополистом на рынке подобных решений. Строительство нового завода в Японии также станет ответом на инвестиции конкурентов в соответствующую сферу в США, Южной Корее и на Тайване.
Источник изображения: Canon
Ожидается, что объёмы инвестиций составят $345 млн, включая стоимость строительства и установку производственного оборудования. Завод начнёт производство уже весной 2025 года. В результате компания удвоит свои производственные мощности в данной нише. Компания не просто намерена расширить производство, но и делает ставку на новые технологии, благодаря которым можно будет выпускать полупроводники нового поколения по низким ценам. Сегодня она выпускает литографическое оборудование на двух заводах в Японии, которое используется для выпуска чипов, например, для систем управления автомобилями.
Новый завод будет построен на участке площадью 70 тыс. м2 на территории уже существующего производства. Это будет первый новый завод по выпуску литографического оборудования, построенный Canon за 21 год, возведение начнётся в 2023 году. Ожидается, что в 2022 году продажи литографического оборудования год к году вырастут на 29 % до 180 машин — вчетверо больше показателей десятилетней давности. Новый завод позволит удовлетворить растущий спрос.
По данным World Semiconductor Trade Statistics, в прошлом году мировой рынок полупроводников впервые в истории превысил $500 млрд, В индустрии ожидают, что в 2030 году он превысит $1 трлн. Сегодня Canon контролирует 30 % мирового рынка литографического оборудования по объёму, уступая только ASML, на долю которой приходится 60 %. Intel и Taiwan Semiconductor Manufacturing Co. (TSMC) анонсировали планы построить новые собственные заводы в США и других странах. Их примеру решила последовать и Canon.
Компания также разработала технологию следующего поколения, называемую нанопечатной литографией. Это позволяет выпускать самые передовые микросхемы по более низким ценам в сравнении с уже действующим литографическим оборудованием. Процесс упрощён благодаря методике, позволяющей буквально «штамповать» рисунки интегральных схем, что позволяет существенно снизить стоимость производства — в разработке технологии принимали участие японские Kioxia и Dai Nippon Printing.
Сегодня самой незаменимой является технология, использующая EUV-литографию для формирования схем на нанометровом уровне. Единственным источником подобных технологий сегодня является нидерландская ASML. Тем не менее подобное оборудование дорого, стоит около $138 млн за машину и потребляет много энергии. Если нанопечатная литография достигнет стадии практического коммерческого использования, в Canon рассчитывают, что сокращение себестоимости литографии составит до 40 %, а энергопотребления — до 90 % в сравнении с EUV. Это позволит пошатнуть доминирование ASML на рынке.
Что такое нанопечатная литография, она же НИЛ ?
По сути это горячее тиснение.
Это ультрапрецизионный штамповочный станок, с штампом имеющим наноразмерный рельеф. Сам штамп обычно делают из никеля или кремния на электронном литографе. Ну и сама штамповка по понятным причинам происходит в вакууме. Таким методом можно делать чипы по любому техпроцессу.
Метод известен с 90хх годов, но не пошёл в промышленность из-за проблем со штапаиа ( сложности с совмещением, надо часто менять штампы, а делают их на электронных литографах ). Если японцам удалось решить данные проблемы, то это не просто крах почти монополии ASML, но и существенное укорачивание и кпрощение технологической цепочки микроэлектроники, а также удешевление основных фондов полупроводникового производства.
Комментарии
инвестиции в фабрику сопоставимы с ценой сканера ASML))
Чуть больше) Но погоды это не меняет, если они и в правду довели НИЛ до промышленного применения, то станки будут стоит дешевле чем DUV двадцатилетней давности...
Нам бы тоже в таком случае активизировать работы с НИЛ, ведь у нас этим занимались. Даже патенты какие-то были.
Это не совсем так, но для "например, для систем управления автомобилями" более чем хватит. Там есть свои проблемы в выходе годных и сроке жизни штампа.
Еще как пошел )) По слухам почти все профилированные подложки для светодиодов это nanoimprint (но там конечно не 7 нм).
На практике Canon хочет именно передовые техпроцессы печатать.
Поэтому это и не выходило за пределы лабораторий.
Ну разрешение NIL они благоразумно не указывают ))
А если что Canon это еще и один из крупнейших производителей электронных литографов, так что правильно не в одну корзину вкладываются.
Ну таки что бы сделать штамп нужны электронные литографы ( а так же они нужны что бы сделать фотошаблоны для оптической литографии ).
Они хотят менее 10 нм.
Интересно, а если у нас вложить раз в десять больше, ну, скажем 5 млрд, сможем что-то подобное создать?
Я сейчас как раз читал про их метод НИЛ.
В принципе это можно сделать. У нас есть люди которые занимались струным принтингом, НИЛ. Основная проблема создать резисты и долгоживущие штампы.
Сам станок будет сложно сделать, но не невозможно.
Вот только японцы делают не литограф а завод по выпуску литографов. Есть небольшая разница да.
Легко но в "единичном" экземпляре и фиг знает что с этим делать. У нас не смогут внедрить в промышленность! Проще говоря, сделать так, чтобы эта штука массово нормально работала и производила экономически выгодную продукцию. Ну и распил с другой стороны...
Просто осознайте проблемы - например у нас в стране вообще не производят игл для шприцов! Что тяжело, дорого сделать? Нет просто если сделать самим то они на фиг ненужны будут. Так и тут...
Брехня. Поинтересуйся оборудованием, ЗАО НТЦ.
Производят у нас иглы. Вот например.
Как вы резко всёпропальщика под шконку запихали. Добрее надо быть к людЯм ))
Не люблю когда несут ересь.
...Производят у нас иглы...
Да, производят. Но есть ньюансы.
Для справки:
Сведения о продукции
Общее наименование продукции: Иглы инъекционные однократного применения
Обозначение продукции: G14; G15; G16; G17; G18; G19; G20;G21; G22; G23; G24; G25; G26; G27; G28; G29; G30
Тип декларации: Декларация о соответствии продукции, включенной в Единый перечень продукции Российской Федерации
Тип объекта сертификации: Серийный выпуск
Заявитель
Полное наименование: ОБЩЕСТВО С ОГРАНИЧЕННОЙ ОТВЕТСТВЕННОСТЬЮ "МЕДИКО-ПРОИЗВОДСТВЕННАЯ КОМПАНИЯ "ЕЛЕЦ"
Производитель
Полное наименование: «Wenzhou Beipu Science & Technology Co. Ltd.»
Адрес: Китай, №7 JinShui Road Wenzhou Industrial Park, Zhejiang Pro, China.
Координаты ГЛОНАСС (широта, долгота) 30.45330810546875, 116.35297393798828
и ещё
Сведения об учредителях
Наименование: КОМПАНИЯ С ОГРАНИЧЕННОЙ ОТВЕТСТВЕННОСТЬЮ СОЛЕ СТАРС ХОЛДИНГ ЛЛС ИНН: ОГРН: , наименование на иностранном языке: SOLE STARS HOLDING LLS. Страна происхождения: СОЕДИНЕННЫЕ ШТАТЫ АМЕРИКИ, регистрационный номер: 2020-000955833. Доля в уставном капитале = 8 016 132,00р. (в процентом соотношении 100%)
ИТОГ: Американская компания продаёт китайские иглы в России.
Бороться с Китаем по стоимости массовой продукции практически невозможно.
В книжке писали, что у нас холодно, надо топить печку и делать толстые стены.
Так у них - жарко и надо кондиционер!
По итогу, дешевле там, где меньше воруют.
https://mpk-elec.ru/igly-odnokratnogo-primeneniya/
https://komar-sp.ru/
Наброс за набросом... То сева идёт.
У нас в стране производят иглы для шприцов, например на Паскаль Медикал Московская обл. и помню читал, что впускали в Курской и Нижегородской обл. Ещё в 2018 г. Ростех вкладывал в первое в России производство инъекционных медицинских игл полного цикла в Ярославской обл., но не в курсе запустили или нет.
И сразу появились проблемы с газом. В Малайзии трубопровод сломался. Совпадение?
Это китайцы шалят.
Думаю, что внезапно в Японии демократия не той системы окажется. Да и с СПГ что то незаладилось...
Оборудование разрабатывалось совместно с американцами. Скорее это объясняет зачем стали топить Европу. Ибо а зачем теперь ASML?
Гробанут и их.
Неизвестно.
Сто пудов, один капиталист чтобы не ограбил другого? Это закон природы;)
Как там сотрудничество Вестингауза с джапами по ядерным делам?;)
-- Прилетит ракета. Но свалят на северокорейцев. ;)
Что, прям всю Европу утопят из-за ASML? Дешевле было бы поезд какой нибудь под откос пустить, и чтоб прям на цех
Хотелось бы увидеть такую новость про Россию...
Когда-нибудь услышим, у нас тоже занимались. Думаю сейчас займутся активней.
Свою микроэлектронику у нас зарезали, как я понял, Стас айкакпросто про то рассказал. А была надежда.
Ну оборудование производили в Белоруссии, кремний делали на Украине и т.д. Нам достался кусок советской электроники, в который лет 30 почти не вкладывали. Тем не менее многое есть, и или можно в относительно быстрые сроки допилить до промышленного уровня.
Шансы сильно уменьшили, приняв балльную систему, против коей Стас айкакпросто боролся вместе с людьми из микроэлектронной сферы.
И думал что смог. Однако переждали и приняли. Суть надо у него смотреть, я не специалист.
С промышленным уровнем есть критическая проблема - рынок сбыта. Аналогия понятно кривая, но: микроэлектронный завод это как домна, остановить - нельзя, и завод на 1000 пластин в месяц стоит на проценты дешевле чем завод на 10000 пластин. А у нас внутренне потребление это условно 900 пластин. Пока все меряется баблом - шансов нет от слова совсем.
Для каждого изделия есть "пол" ниже которого цена при серии практически перестаёт падать. Нашего рынка вполне достаточно для крупномасштабного производства полупроводниковых изделий.
Недостаточно.
Стас айкакпросто объяснил.
Что объяснил? Слушайте, если вы смотрели этого айкакпросто, то наверно знаете, что он сказал. Не так ли? Мне что бежать смотреть все его видосы? Делать мне больше нечего.
А вот у меня есть цифры. Минимальная оценка нашего потребления ~ 360-370 тысяч полупроводниковых пластин в 200мм эквиваленте в месяц. Фаб окупается начиная с 30к пластин в 200мм эквиваленте в месяц. Мы имеем примерно 11 самоокупающихся фабов, если вообще считать по минимумам.
Битлов через Мойшу не слушают. Ваш расчет не взлетает по объективным причинам. Кои Стас и озвучил.
Сейчас лучше сидеть на откатах от зарубежных поставщиков. Недавно это законодательно закрепили, можно сказать.
Вы простите клоун? Где озвучил? Что озвучил? Ну? Вообщем раз не можете ничего внятно объяснить, то и ни черта вы не понимаете в отрасли.
И именно поэтому разрабатывают литографические машины. Ну ну.
А своим процессорам дорогу не дают, лобби IBM важнее.
31 минута про балльную систему. Вставил пару своих контроллеров и вуаля! Идут разработчики своих процессоров лесом. В нарушение своих же законов, о чем весь ролик и говорится.
После выхода этого ролика просто переждали, а недавно эту балльную систему ввели таки.
С таким подходом и литографы не нужны станут.
Не, не получается. На круг вроде и ничего, но слишком много номенклатуры с очень малым потреблением, есть позиции где реально 1 пластина в ГОД(!).
Из-за скрытого импорта. Очень много чего электронного содержится в импортируемом. Вот те же шаговики, рынок - примерно 2 млн. тш. , собственное производство около 300К шт. Но все драйвера иностранные. А это получается мы при полном импортозамещении шаговиков должны откуда-то достать 2 миллиона кристаллов год. И так во многих казалось бы мелочах.
Вот сидишь ты голый, босый, жрать нечего, газа нет, горячей воды тоже, и тут тебе сообщают-в России стоят завод, галактический-нанометрический, обосрешься поди от счастья.
У вас ошибка, в слове Европа)
аллё это нынче секретная информация, лучше хотеть чего-нибудь другого
рентгеновская люминесценция
рентгенофлюоресценция.
Хотя побочное рентгеновские излучение засветит все само по себе. Или надо много свинца?
Лазеры на красителях при возбуждении рентгеновским излучением?
Голографические оттиски (отпечатки)?
? Причём здесь рентген? Тут тупо штамповка.
Фраза "штамповать процессоры" приобретет, наконец, здравый смысл.
Штамповать это ещё что, вот когда научатся клепать процессоры ! вот тогда и попрёт !!!
Нет ли здесь вундервафли заманухи? Любые заявления союзников условного противника надо делить на 10.
Это тема продолжение ветки
https://aftershock.news/?q=comment/13130437#comment-13130437
(и там же ниже). Что основная проблема в литографических машинах.
Но не только сам техпроцесс решает. Минусы технологии здесь отмечены и не следует забывать что штамп не вечен и один дефект сделает его непригодным. Если технология вообще работает. Может это все это фейк тупиковая технология и "звездные войны" (раскрутка на умножение инвестиций на ноль).
Главный минус технологии в том что для того чтобы избежать туннельного эффекта современные чипы делают по 3Д технологии. Затворы делают вертикальными. А уже это многослойная литография и здесь не поможет штамп ИМХО т.к. это однослойная литография. Или как совместить слои на 300 мм пластине или компенсировать термическую разницу между процессаами и просто при создании штампов. Или тыкать каждый чип отдельно по 3 раза если 3 слоя?
Проблема даже не в этом проблема что уже 3-5 слоев недостаточно.
Мне эта тема не очень близка и у меня нет четкого понимания как делаются 128 256 (в перспективе) слойные чипы памяти и сколько последовательных литографических процессов для этого надо.
Но эти технологии - будущее для нейросетевых чипов ИМХО.
И пытаться воспроизвести технологию которая не умеет в 3Д вертикальные затворы это не шаг вперед. Можно ли с помощью неё сделать 256 слойный чип(флеш SSD) памяти?
Можно ли с её помощью сделать нейрочип?
Если нет то эта технология будет нишевой для узкого ряда задач или для чипов старых поколений(дорогих по кремнию 8 нм +). (надо знать подробности технологии) возможно другие материалы позволят преодолеть проблему тунельного эффекта на затворах.
https://habr.com/ru/post/456298/
Это известно мне. Не специалисту в вопросе. А специалист возможно будет долго ржать с этой новой "нанометровой технологии". Но это не точно. Не думаю что на АШ специалистов по теме пруд пруди.
Рентген выше упомянут потому что у традиционных технологий проблемы с коротковолновым источником излучения. И это возможно 90% проблем воспроизведения технологии (но это не точно).
https://ufn.ru/ru/articles/2007/7/h/
Рентгеновская литография (в которой вроде как нет проблем с источником энергии) тоже оказывается существует.
EUV 13,5 нм 3Д техпроцесс при использовании оригинальных методов до 1-2 нм.
Предел для DUV-литографии 7 нм, а источник 193 нм. ( грубо - 27 кратное улучшение по сравнению с источником )
Как это делается объясняется здесь:
https://3dnews.ru/1073858/duv-tehnologii-i-edinitsy-nanometrov
Если источник для EUV специально сделали сверхсложным (на ровном месте) чтобы перекрыть доступ к этой технологии для Китая. Так может не повторять за западом.
Может сделать свой источник на основе эффектов (что указаны в первом комментарии). В чем проблема или это закон что надо повторять за западом?
Или вообще перейти на рентгеновскую литографию.
К статьям что выше. Относился бы как "бойтесь данайцев дары приносящих". Но это не точно.
Инвестиции вроде небольшие. Но время специалистов будет убито. И молодой специалист убив 5 лет на тупиковую технологию став взрослее уже будет более ни на что не годен или в лучшем случае покажет 50% эффективности.
Примерно это хотел сказать своим комментарием который был скорее на основе прошлой статьи, но и к данной вполне подходит ИМХО.
Страницы