65% всех современных процессоров производится на фотолитографических сканерах нидерландской компании ASML. Разработка таких технологий с нуля — это миллиарды долларов. Поэтому такие известные производители, как Intel и AMD, предпочитали инвестировать в технологии голландцев. Однако российские ученые намерены «разбить» монополию ASMLithography. Как именно, расскажем далее.
Что придумали российские ученые
Стоимость литографа — выше $300 млн. Чем меньше техпроцесс (а сейчас уже используются 7 нм, 6 нм), тем он дороже.
Для работы фотолитографу нужны маски, так называемые шаблоны, по которым переносится рисунок. Такой шаблон делается под каждую новое поколение, то есть для core i7 3770 — одна маска, а для core i7 4770 — другая.
В Московском институте электронной техники (МИЭТ) разрабатывают концепцию рентген-литографа, для которого маски (как отдельная деталь) не нужны. Весь рисунок, который представляет собой цифровое изображение, проектируется на микрооптическую систему (МОЭМС), по сути, на микроэкран. При этом оборудование поддерживает техпроцесс 28 нм и менее, вплоть до 10.
Теория или реальность
МИЭТ, основываясь на российских разработках, получил госконтракт стоимостью 670 млн рублей на создание технологии и макетов масок, техзадание и техническо-экономическое обоснование первого образца литографа. Все работы планируют завершить в ноябре этого года. То есть к созданию опытного образца, возможно, приступят уже в начале 2023 года. Промышленный выпуск, по прогнозам, начнется примерно через 5 лет.
В проекте будут использованы теоретические наработки и оборудование многих НИИ и КБ. В частности, зеленоградской компании «ЭСТО», ТНК «Зеленоград», НИЦ «Курчатовский институт», филиала Института прикладной физики РАН в Нижнем Новгороде, Института спектроскопии РАН в Троицке.
Отмечается, что такие литографические сканеры будут в несколько раз дешевле тех, что используют излучение с длиной волны 193 нм (глубокий ультрафиолет). А они в свою очередь в несколько раз дешевле наиболее современных, использующих жёсткий ультрафиолет.
И это не учитывая, что скорость работы у безмасочных многолучевых сканеров будет в несколько раз выше. Подробнее о технологии и устройстве мы писали здесь.
Если российские учёные успешно завершат разработку, то голландскую компанию ждет бесславный конец.
Экономические перспективы
Исследования по созданию безмасочного фотолитографа велись с 2010 года. Значит, успех вполне вероятен. Аналогов российской технологии нет. Она действительно может перевернуть представление о производстве микропроцессоров, так как удешевляет весь процесс.
В нынешних условиях экономически выгоден масштабный выпуск чипов. Безмасочный литограф позволит создавать востребованные узкопрофильные и специализированные процессоры. Весьма оптимистичные прогнозы. Как думаете, насколько они реальны?
Автор:
Максим Демченко
Комментарии
Да другой, но всё равно дороже обычной.
За что купил...от темы далек...
На айфонах уже сто лет в обед как нету сапфирового стекла.
Ну это решение Эппл. Они так и не импортозаместили российский сапфир. Тут не в деньгах дело
Они отказались от сапфира в принципе. Слишком дорого выходило.
Наш сапфир по стоимости выходил нормально.
Просто мы единственные, кто может делать монокристалы диаметром 300мм.
Но они вертели жопой и пытались сами пооизводство наладить.
Нихрена не вышло
Нет. Мы наладили производство 300мм монокристаллов после отказа аппл от сапфира.
Через 15 лет непрерывного финансирования может быть будет действующий аппарат, который может рентабельно работать на небольших сериях. А может и ничего не будет. ASML 20 лет свой аппарат дорабатывал.
Имея на старте из техники PC XT, из программного обеспечения нортон коммандер и суперкальк, из понимания "надо как-то так, наверное". Вероятно сейчас с этим всем проще, не находите ? Сейчас даже кульманов, которые применялись вовсю 20 лет назад, не осталось.
Не хвались, идя на рать,.........
Через 5 лет это оборудование будет иметь такую же ценность как говно мамонта. Я бы сказал что даже сейчас это оборудование устарело а к 2027-му будет способно только вызывать недоумение и гомерический смех.
С чего-то начинать всё-равно нужно. И ещё один момент - бесконечно опережать на несколько поколений технологии им не получится - рано или поздно лидеры упрутся в физические пределы размера транзисторов и аутсайдеры начнут лидеров постепенно нагонять. То, как это все сейчас сделано у лидеров и сколько требует вложений - чудовищные деньги, поэтому и нужно пробовать какие-то альтернативные варианты, возможно будут какие-то прорывы со временем.
EUV фотолитограф ASML делали 15 лет. Не аргумент.
Здесь не все так однозначно. Прогресс по нанометрам уже остановился из-за физических ограничений. Вполне можно догнать и дальше постепенно улучшать параметры. Здесь уже будет важнее школа проектирования, а в РФ для процессоров она есть. Для графики - не знаю, но возможно уже есть заготовки.
В-принципе, эта технология еще до рождения являлась говном мамонта.
Но это "говно мамонта" позволит выпускать абсолютно все необходимые России микросхемы дешевле, чем любым другим способом.
И дополнительным бонусом, данная технология будет весьма дружелюбна в отношении независимых разработчиков. Если классическая масочная технология требует нехилых финансовых вложений в подготовку производства конкретной микросхемы, изготовления фотошаблонов и пр., то в безмасочной эти расходы не нужны, все расходы это отправить файл на печать.
А какие техпроцессы освоила РФ, и что серийно производит на своей территории??
Смотря что считать под освоением.
Серийно производится всё вплоть до 90 нм, но техпроцессы 350, 130, 90 нм реализованы на иностранном оборудовании. Для них нету производства фотошаблонов, есть огромные проблемы с качеством реагентов ( например фоторезиста ), но сами вещества есть.
Всё что "толще" полностью отечественное.
Есть возможность на фаб200 Микрона производить малые партии по 65 нм, но стоимость будет огромна.
В целом нам не хватает DUV-фотолитографа ( длина волны 193 нм ), и установок ионной имплантации всё остальное или уже есть, или не представляет особой сложности. Это если говорить об закрытии потребностей в чипах производимых по техпроцессам выше 90 нм, но в статье говорится про фотолитограф иного типа, безфотошаблонный, EUV. С его помощью можно наладить выпуск микроэлектроники по передовым техпроцессам.
А эта фабрика продукцию выпускает??
-/////
Микроэлектронная фабрика «Ангстрем-Т» введена в коммерческую эксплуатацию
Микроэлектронная фабрика «Ангстрем-Т» (Зеленоградский административный округ г. Москвы) 30 июля получила разрешение Мосгосстройнадзора на ввод объекта в эксплуатацию. Это означает, что с августа этого года предприятие может выпускать, продавать продукцию и вести полноценную коммерческую деятельность.
Строительство и запуск фабрики было бы невозможно без участия Внешэкономбанка, который является основным кредитором проекта. Банк участвует в финансировании «Ангстрем-Т» с 2008 года. Общая стоимость производства составляет 897 млн евро, участие Банка развития — 815 млн евро.
Фабрика «Ангстрем-Т» — это отечественное производство полупроводниковых изделий по технологии 90 и 130 нанометров.
По данным аналитической компании Gartner доля продукции, произведенной по топологическим нормам 90-130 нм., в мире будет увеличиваться. Согласно прогнозам, с 2016 г. до 2019 г. средний рост (CAGR) доходов от технологий 90-130 нм. составит 4,2%. Значительный вклад в этот показатель обеспечивает бурно развивающийся сегмент Интернета вещей, электронная компонентная база которого базируется на указанных технологиях. Кроме того, продуктовая линейка компании находит свое применение в автомобильной отрасли, процессах автоматизации производства и строительства, здравоохранении, коммунальном хозяйстве, устройствах для умного дома, телекоммуникационном оборудовании, а также в банковской сфере.
«Мы решили ряд трудных задач, связанных со строительством и запуском фабрики, установкой высокотехнологического оборудования. Сейчас нам предстоит сформировать портфель заказов и приступить к реализации продукции. Наши чипы очень востребованы не только на внутреннем, но и на внешнем рынке. Бизнес-план предприятия создавался с участием международной компании Gartner, которая положительно оценивает перспективы экспорта российской микроэлектроники. Мы можем создать конкурентоспособную продукцию с технологической и экономической точки зрения» — заявил Председатель Совета директоров АО «Ангстрем-Т» Леонид Рейман.
Специалисты «Ангстрем-Т» спроектировали и налаживают производство банковского чипа для платежной карты «Мир» Национальной Системы Платежных Карт. Также разработана операционная система для использования с чипом под приложение МИР НСПК. В дальнейшем чип будет сертифицирован по международному стандарту EMVCo.
https://sdelanounas.ru/blogs/81252/
https://sdelano-u-nas.livejournal.com/7945765.html
Нет. Ангстрем-Т банкрот, там мутная история. Оборудование хранилось под открытым небом... Не не реанимируют, только строить новую.
российский завод по производству микроэлектроники «Ангстрем-Т» вновь может вернуться к выпуску микросхем. Это может стать возможным благодаря компании ООО «НМ-Тех», которая выкупила его имущество за 8,4 млрд руб., пишет «Коммерсант».
российский разработчик и производитель микроэлектронных компонентов «НМ-Тех» (100% которого принадлежит госкорпорации ВЭБ.РФ) нанял на работу в России нескольких десятков специалистов тайваньской UMC. Среди них есть инженеры-разработчики печатных плат, конструкторы и схемотехники.
Бывшие инженеры UMC займутся восстановлением мощностей и запуском производства микроэлектроники на существующем оборудовании AMD на площадке бывшего завода «Ангстрема-Т», которым сейчас владеет «НМ-Тех». Также они будут обучать и передавать свой опыт российским молодым специалистам компании. Производственные линии завода до его банкротства были рассчитаны на выпуск микросхем и электронных компонентов по технологиям 130–90 нм. В рамках восстановления завода «НМ-Тех» планирует открывать там и новое производство.
Пока не пустили. И оборудование, как я и сказал там уже всё. Там по сути новую фабрику пилить надо.
Мы будем производить литографы с устаревшим техпроцессом, а голландцев которые используют более современный процесс - ждет бесславный конец? ))
Обычный буллшит. Описанная технология, позволяет производить сипы по техпроцессам и ниже 28 нм. Но они в любом случае будут дороже произведённых с помощью обычной фотолитографии с шаблонами. Это позволит России иметь полностью независимую передовую микроэлектронику, но не позволит завоевать мировые рынки. Хотя и сможет подарить независимую микроэлектронику странами вроде Ирана, и КНДР.
Реально ли китайцам догнать асмл по шаблонной литографии на интервале 10-15лет?
Невозможно. Они сами это признают. SIMC вот в своей стратегии ориентируется на "зрелые" техпроцессы.
14 нм пилит Хуавей, и люди, которые там работают, говорят о 2-3 годах. Сматрофон на 90 нм не сделать. А SMIC, действительно, отказались. Говорят, что невыгодно, никогда не окупится.
Про Хуавей не в курсе, слышал в Китае рентгеновской оптикой увлеклись в последнее время. Неужто EUV пилят?
На Хабре была статья бывшего харьковского аспиранта, приглашенного работать на Хуавей. Человек рассказывал, чем он занимается. Именно созданием рентгеновской оптики.
https://habr.com/ru/post/582510/?
В комментах автор пишет, что Хуавею осталось 3 года до запуска EUV процесса.
Да, я тоже мельком видел. Спасибо что нашли потерянную ссылку)))
Но не думаю, что всё так оптимистично, иначе бы кое-кто не возился бы 15 лет с EUV.
пара Искандеров
Ну, т.е. срок надо помножить на два. В лучшем случае. Всего-то ничего осталось.
Перспективный чат детектед! Сим повелеваю - внести запись в реестр самых обсуждаемых за последние 4 часа.
Даже больше добавлю, ужас-ужас. Для каждой новой версии, каждого патча - новая маска.
И не одна, а набор)))
Информация уже не новая. Вложения в эти тему копеечные обозначены. В Китае уже 14 нм. Мы хотим отстать на 10 лет.
А в эту технологию больше и не надо. Это дешевая, но медленная технология.
Ещё не надо забывать, что немало труда вложено россиянами в той же ASML, где директором по разработке был Банин Вадим Евгеньевич.
Слишком много различных "если", тут пока нечего обсуждать, кроме теоретических перспектив теоретической технологии, а расстояние от теории до её практической реализации, как известно, зачастую может стремиться к бесконечности.
И да, и нет. Опытные образцы уже были созданы 11 лет назад.
стенд проекционного нанолитографа
Технология вполне реальна. Просто этим заниматься надо было в своё время.
Ну, вот, в своё время эти и занимались, но не далее неких опытных образцов, поскольку дальнейшее развитие этой технологии до уровня некого практического промышленного применения было экономически нецелесообразным.
В статье утверждается, что российский разработчик "получил госконтракт на создание технологии и макетов масок, техзадание и техническо-экономическое обоснование первого образца литографа." Понятно, что некий задел тут уже есть, но речь пока о создании технологии и некого первого технологического образца, где возникает первое "если", если эти работы будут успешно завершены.
asml - колонка?
Хорошие вы парни. И главное умные. Но было бы здорово,
если бы кто то из вас написал бы статью для чайников.
Этакий ликбез. Чтобы вас и обычные люди понимали.
С примерами. Условно.
Телевизор 3 года назад- 60нм. Телевизор сегодня-14нм.
Станок с ЧПУ. Мы покупали разных штук 6 в 2008-2010 годах. По большому счету то что делают сегодня, ничем не лучше и не производительнее. Немного больше изюма. Но реально для промышленности этот изюм почти не важен. Больше маркетинга.
Что там стоит? Можем заменить или нет? Или разобрав один телевизор двухлетней давности собираем два станка?
Что по чипам может стоять в БМВ G-серии, а что в Ладе Веста.
Что стоит условно в сварочных роботах? Их еще 20 лет назад делали.
Счетчики электроэнергии современные. Какие там чипы?
350-250 нм мы можем производить сами в нужных нам количествах? Купить мы их можем? Условно потому что в Китае их на коленках уже делают и за таким старьем уже не следят.
Дайте ликбез для технически более менее грамотных, но IT недалеких людей.
Онли 90 нм. Больше просто не нужно.
передовые техпроцессы - это цп, память, и нейропроцессоры.
Вся автоэлектроника - это 90 нм. Как впрочем и силовая электроника.
Не особо, DUV фотолитографа своего пока нету. Собственно выше в топике было про Ангстрем-Т. Прекрасная фабрика была, до санкций. 130-90 нм техпроцесс, 180 000 200 мм пластин в месяц. Закрывало огромную часть импорта, но зависело от американских технологий. Сейчас там ничего не работает... Надо было свои DUV фотолитографы делать.
Главная проблема безмасочной литографии - скорость экспонирования. Сегодня она решается увеличением количества лучей. Отставание в скорости от традиционной, масочной литографии по этому параметру уже не на порядки, а только в разы. Думаю, что первые транши на разработку (670млн.руб) - это только рекогносцировка на российской полянке, т.е. выяснение того, что мы реально можем, за какие деньги и в какие сроки. Думаю так же, что после выяснения "кто есть ху" всю тему, со всеми деньгами, административно заберет под себя Росатом, с целью создания замкнутого и самодостаточного производства внутри госкорпорации различных чипов, по современным технологическим нормам. Ангстрем-Т и Микрон при этом могут остаться параллельными структурами, работающими по традиционной, масочной литографии. Не исключаю так же, что получится решить вопрос с приобретением фото-литографов ASML предыдущих серий через третьи страны, хотя бы для прото-копирования. "Партнерам" и всем-всем-всем будут нужны рубли.
Страницы